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Gersteltec Engineering Solutions
Swiss Made SU-8 photoepoxy funktionelle Produkte für MEMS, LIGA und Mikroelektronik

SU-8-Nanokomposite Beschichtungen mit verbesserter tribologischer Leistung für MEMS

Das wachsende Interesse an mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) hat die Anforderungen an photoresist-Materialien mit verbesserten Reibungs- und Verschleißeigenschaften für mechanisch belastete 3D-förmige Mikrostrukturen erhöht.

Optische Bilder von Verschleißspuren, die von Stahlkugeln auf (a) SU8, b) SU8 nach Wärmebehandlung, (c) A-Verbundwerkstoff, (d) Verbundwerkstoff A nach Wärmebehandlung, (e) B-Verbundwerkstoff, (f) B-Verbundwerkstoff nach Wärmebehandlung hinterlassen werden. Der horizontale Rahmen jedes Bildes entspricht 0,6 mm.

Jiguet, S. ; Judelevicz, M. ; Mischler, S. ; Hofmann, H. et al.

Oberflächen- & Beschichtungstechnik, Vol. 201, num. 6, 2006, S. 2289-2295

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