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info@gersteltec.ch +41 (0)79 564 34 23 General-Guisan 26, 1009 Pully, Switzerland CH
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Gersteltec Engineering Solutions
Swiss Made SU-8 photoepoxy funktionelle Produkte für MEMS, LIGA und Mikroelektronik

Sie benötigen Harz für die nanoskalige Produktion?

Willkommen bei e- Beam Resist

Gersteltec entwickelt, produziert und entwickelt Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie, um den Anforderungen der EBL-Community gerecht zu werden. Gersteltec bietet verschiedene Arten von e-Beam- und p-Beam-Resisten unter verschiedenen Produktformen an, die Ihrem Unternehmen einen zusätzlichen Wettbewerbsvorteil verschaffen können. Als Negativharz GM10xx, GLM10xx und SML Resist und positiver PMMA Resist.

Gersteltec

Gersteltec bietet gebrauchsfertig formulierte Produkte mit verschiedenen Füllstoffen, Pigmenten, Tinten und Lösungsmitteln (Ceton, Etheracetat, aromatisch und mehr) nach Ihren Bedürfnissen. Gersteltec photoepoxy Materialien und Produkte erfüllen und übertreffen die Anforderungen der führenden Hersteller von Mikrosystem-Bauelementen mit fortschrittlichen funktionalen SU-8-Photoresists.

GM10xx series GLM20XX Low-Stress seris

  • GM1010 für Schichten kleiner als 0.2 µme-Beam
  • GM1020 für Schichten zwischen 0.2-0.5µme-Beam
  • GM1030 für Schichten zwischen 0.5-1.2µme-Beam
  • GM1040 für Schichten zwischen 0.9-3.2µme-Beam
  • GM1050 für Schichten zwischen 3-8µme-Beam
  • GM1060 für Schichten zwischen 5-27µme-Beam

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Resist

SML

SML Resist wird in verschiedenen Dicken von 50nm bis 2μm in Volumina ab nur 50mL geliefert. Der leistungsstarke SML-Resist ist ein neuartiges Polymer, das speziell für die Anforderungen der EBL-Community entwickelt wurde. Es kann gleichzeitig in hochauflösende und hochformatige Muster gemustert werden, auch bei niedrigen Beschleunigungsspannungen und ohne Hilfe der Nahbesprechungskorrektur.

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Resist

PMMA

PMMA (Polymethylmethacrylat) ist ein weit verbreiteter, vielseitiger, positiv arbeitender Elektronenstrahlresist. Es wird in vielen mikro- und nanoelektronischen Anwendungen eingesetzt. Typischerweise mit der Direkt-Schreib-Elektronenstrahl-Lithographie belichtet, kann PMMA auch mit Röntgen- und Tief-UV-Mikrolithographieverfahren belichtet werden.

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