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info@gersteltec.ch +41 (0)79 564 34 23 General-Guisan 26, 1009 Pully, Switzerland CH
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Gersteltec Engineering Solutions
Swiss Made SU-8用于MEMS和微电子的光氧功能产品

您需要树脂用于纳米级生产吗?

欢迎来到e-Beam Resist

Gersteltec开发,制造和设计电子束光刻抗蚀剂,以满足EBL社区的需求。 Gersteltec提供多种不同产品形式的电子束和p-Beam抗蚀剂,可为您的公司带来额外的竞争优势。 作为负树脂GM10xx,GLM10xx和SML抗蚀剂和正PMMA抗蚀剂。

Gersteltec

Gersteltec根据您的需求提供即用型配方产品,包括不同类型的填料,颜料,油墨和溶剂(提取物,乙酸乙酯,芳香族等)。 Gersteltec的photoepoxy材料和产品满足并超越了世界领先的微系统设备制造商的需求,采用先进的功能性SU-8光刻胶。

GM10xx series GLM20XX Low-Stress seris

  • GM1010适用于小于0.2μm的层e-Beam
  • GM1020适用于0.2-0.5μm之间的层e-Beam
  • GM1030适用于0.5-1.2μm之间的层e-Beam
  • GM1040适用于0.9-3.2μm之间的层e-Beam
  • GM1050适用于3-8μm之间的层e-Beam
  • GM1060适用于5-27μm之间的层e-Beam

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SML

SML Resist的厚度范围为50nm至2μm,体积仅为50mL。 高性能SML抗蚀剂是一种新型聚合物,专门设计用于满足EBL社区的需求。 即使在低加速电压下,也可以同时将其图案化为高分辨率和高纵横比图案,并且无需邻近效应校正。

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PMMA

PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)是广泛使用的通用正性电子束抗蚀剂。 它用于许多微米和纳米电子应用。 通常使用直接写入电子束光刻曝光,PMMA也可以用X射线和深UV微光刻工艺曝光。

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