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info@gersteltec.ch +41 (0)79 564 34 23 General-Guisan 26, 1009 Pully, Switzerland CH
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Gersteltec Engineering Solutions
Produits fonctionnels SU-8 photoépoxy de fabrication suisse pour MEMS, LIGA et Microélectronique

Vous avez besoin de résine pour la production à l'échelle nanométrique ?

Bienvenue sur e- Beam Resist

Gersteltec développe, fabrique et conçoit des réserves pour la lithographie par faisceau d’électrons afin de répondre aux exigences de la communauté EBL. Gersteltec offre plusieurs types de résistances e-Beam et p-Beam sous différentes formes de produits qui peuvent donner à votre entreprise un avantage concurrentiel supplémentaire. Comme résine négative GM10xx, GLM10xx et SML et résine positive PMMA.

Gersteltec

Gersteltec offre des produits formulés prêts à l’emploi avec différents types de charges, pigments, encres et solvants (cétone, acétate d’éther, aromathique et autres) selon vos besoins. Les matériaux et produits photoépoxy de Gersteltec répondent et surpassent les besoins des principaux fabricants de microsystèmes world´s avec une photoréserve SU-8 fonctionnelle avancée.

GM10xx series GLM20XX Low-Stress seris

  • GM1010 pour les couches inférieures à 0.2 µme-Beam
  • GM1020 pour les couches entre 0.2-0.5µme-Beam
  • GM1030 pour les couches entre 0.5-1.2µme-Beam
  • GM1040 pour les couches entre 0.9-3.2µme-Beam
  • GM1050 pour les couches entre 3-8µme-Beam
  • GM1060 pour les couches entre 5-27µme-Beam

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Résine

SML

SML Resist est disponible dans une gamme d’épaisseurs allant de 50nm jusqu’à 2μm dans des volumes à partir de 50mL seulement. La résistance SML haute performance est un nouveau polymère qui a été spécialement conçu pour répondre aux exigences de la communauté EBL. Il peut être configuré simultanément en motifs de haute résolution et de rapport d’aspect élevé, même à de faibles tensions d’accélération, et sans l’aide de la correction de l’effet de proximité.

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Résine

PMMA

Le PMMA (polyméthacrylate de méthyle) est une résine résistante au faisceau d’électrons à teinte positive, polyvalente et largement utilisée. Il est utilisé dans de nombreuses applications microélectroniques et nanoélectroniques. Généralement exposé par lithographie directe par faisceau électronique, le PMMA peut également être exposé par rayons X et par microlithographie UV en profondeur.

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