Gersteltec:
Engineer gewünschte Effekte in SU-8 und bieten eine Reihe von Nanopartikel-verteilten SU8.
Bereitstellung kundenspezifischer Formulierungen für die Pilotierung
Bietet Beratung und Materialoptimierung für anwendungsspezifische Entwicklungen.
Die Entwicklung eines erfolgreichen Gerätes bezieht sich auf Ihre Konstruktion verfügbare Verarbeitung und Material. Im Laufe der Jahre unterstützen wir unsere Kunden mit innovativen Ideen, Time-to-Market und Preisen.
Für neu entstehende Anwendungen benötigen Kunden neben der Möglichkeit der Fotomusterung oft auch einen funktionalen Effekt;
Herkömmliche Photopolymere und Resists sind Verbrauchsmaterialien und haben an sich keine Wirkung.
Veränderte Verarbeitungsmethoden (z.B. Inkjet-Deposition) erfordern eine Änderung der Materialparameter.
Bestehende Lieferanten bieten nur Standardprodukte an – nicht auf den jeweiligen Zweck zugeschnitten.
Diese Technologie ermöglicht die Entwicklung eines neuen funktionellen Photoresists auf Basis des SU-8-Harzes, der an die Anforderungen von customer´s angepasst werden kann. Diese anpassungsfähigen Photoresists können mit Halbleitern in der Mikrotechnik und in Nanoanwendungen eingesetzt werden.