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Gersteltec Engineering Solutions
MEMSおよびマイクロエレクトロニクス用のスイス製SU-8フォトエポキシ機能製品

微細加工用途向け低応力特性を有するSU-8ナノコンポジットフォトレジスト

シリカ/SU-8ナノ複合マイクロカット(50nm)の透過電子顕微鏡(TEM)画像。シリカナノ粒子は、エポキシマトリックス中によく分散される。

ジゲット,S.バーツシュ, A. ;ジュデレヴィッチ, M. ;ホフマン、H. ら

マイクロエレクトロニクス工学, vol. 83, 2006, p. 1966-1979

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