Leitfähige SU8 Photoresist für Mikrofertigung

Für die direkte Photomusterung von Elektroden wurde ein leitfähiger Komposit-Photoresist entwickelt. Es basiert auf einer Dispersion von Silber-Nanopartikeln in SU8, einem nichtleitenden, negativ-tonigen Photoresist. Hergestellte Strukturen haben eine elektrische Förderfähigkeit bei einem niedrigen Silbergehalt von ca. 6 Vol.-%.

Entwicklung des elektrischen Widerstands des SU8-Silberverbunds versus Silbervolumenfraktion vor und nach der thermischen Behandlung (Iso- Therm von 90 min bei 1200C). An der Perkolationsschwelle (6 Vol.-%) wurde ein drastischer Wechsel der Widerstandsfähigkeit beobachtet, und nach der thermischen Behandlung wurde eine elektrische Leitfähigkeits-En- hancement erhalten.

Jiguet, Sébastien ; Bertsch, Arnaud ; Hofmann, Heinrich ; Renaud

Erweiterte Funktionsmaterialien, num. 15, 2005, S. 1511-1516

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