Für die direkte Photomusterung von Elektroden wurde ein leitfähiger Komposit-Photoresist entwickelt. Es basiert auf einer Dispersion von Silber-Nanopartikeln in SU8, einem nichtleitenden, negativ-tonigen Photoresist. Hergestellte Strukturen haben eine elektrische Förderfähigkeit bei einem niedrigen Silbergehalt von ca. 6 Vol.-%. Entwicklung des elektrischen Widerstands des SU8-Silberverbunds versus Silbervolumenfraktion vor und nach der thermischen Behandlung (Iso- Therm von...Continue Reading