SU-8 光刻胶通常用于微加工领域,用作结构材料或微流体器件的成型。然而,一个主要限制是难以处理部分独立式SU-8结构或片上单片闭腔和通道 单片封闭SU-8微通道的悬浮SU-8结构的制造过程。 a 标准 SU-8 层在硅晶片上旋转涂层,然后进行软烘烤,以定义通道壁(掩膜 1)和后烘烤。 b 使用经过改良的高紫外线吸收 SU-8 的第二层采用旋转涂层、软烘焙和暴露,以定义微通道的屋顶(面罩 2)。c 在烘焙后之前通过掩膜 1 进行暴露,以改善两个 SU-8 层之间的粘附。 d SU-8 双层结构用于释放微通道 Y. 摩泽尔 • R. 福蒂 • S. 吉盖 • T. 莱纳特 • M. M. Gij微流体纳米流体 (2011) 10:219~224