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Gersteltec Engineering Solutions
MEMSおよびマイクロエレクトロニクス用のスイス製SU-8フォトエポキシ機能製品

モノリシックマイクロ流体チャネル用懸濁SU-8構造

SU-8フォトレジストは、構造材料として、またはマイクロ流体デバイスの成形のために微細加工の分野で一般的に使用されます。しかし、主な制限の1つは、部分的に独立したSU-8構造またはモノリシック閉じた空洞およびオンチップチャネルを処理することが困難である

モノリシック閉じたSU-8マイクロチャネルのための吊り下げられたSU-8構造の製造プロセス。 A標準SU-8層は、シリコンウエハ上でスピンコーティングされ、その後、ソフトベーク、チャネル壁(マスク1)とポストベークを定義する露出が続きます。 b 改変された高紫外線吸収SU-8を用いた第2層は、スピンコート、ソフトベイク処理、及びマイクロチャネルの屋根を定義するために露出される(マスク2)。 d SU-8二重層はマイクロチャネルを解放するために開発される

Y. モーザー • R. フォルティ • S. ジゲ • T. レーナート • M. A. M. ギー


マイクロ流体ナノ流体 (2011) 10:219-224