Gersteltec开发，制造和设计电子束光刻抗蚀剂，以满足EBL社区的需求。 Gersteltec提供多种不同产品形式的电子束和p-Beam抗蚀剂，可为您的公司带来额外的竞争优势。 作为负树脂GM10xx，GLM10xx和SML抗蚀剂和正PMMA抗蚀剂。
Gersteltec根据您的需求提供即用型配方产品，包括不同类型的填料，颜料，油墨和溶剂（提取物，乙酸乙酯，芳香族等）。 Gersteltec的photoepoxy材料和产品满足并超越了世界领先的微系统设备制造商的需求，采用先进的功能性SU-8光刻胶。
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SML Resist的厚度范围为50nm至2μm，体积仅为50mL。 高性能SML抗蚀剂是一种新型聚合物，专门设计用于满足EBL社区的需求。 即使在低加速电压下，也可以同时将其图案化为高分辨率和高纵横比图案，并且无需邻近效应校正。
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PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是广泛使用的通用正性电子束抗蚀剂。 它用于许多微米和纳米电子应用。 通常使用直接写入电子束光刻曝光，PMMA也可以用X射线和深UV微光刻工艺曝光。
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