SU-8 photoresist est couramment utilisé dans le domaine de la microfabrication comme matériau structurel ou pour le moulage des dispositifs microfluidiques. Une limitation majeure, cependant, est la difficulté de traiter les structures PARTIELLEMENT autonomes SU-8 ou monolithiques cavités fermées et les canaux sur puce

Y. Moser – R. Forti – S. Jiguet – T. Lehnert – M. A. M. Gij
Nanofluid microfluide (2011) 10:219-224