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Swiss Made SU-8用于MEMS和微电子的光氧功能产品

微立体光刻:综述

微立体光刻技术是微工程和快速原型设计领域的一项技术。它由立体光刻技术演变而来,也基于光诱导层堆叠制造,由于微立体光刻技术的分辨率远远优于快速原型技术,该技术是特别感兴趣的微工程领域,其3D能力允许生产组件,没有其他微制造技术无法创造。微立体光刻技术的最初发展始于1993年,此后不同的研究小组使用不同的方法开发出了机器。本文回顾了迄今为止开发的主要微立体化工艺。微立体光刻开始成为一种商业上可用的制造过程。随着小型化产品市场的快速增长,对高分辨率小型原型零件的需求也日益增长。如果生产小型机械部件是微立体光刻的首次商业应用,该技术还可以为微机器人、微流体、微系统和生物医学领域生产有用的部件。目前在微立体光刻领域的研究重点是利用陶瓷复合材料作为材料,制造复杂的三维零件,这些零件可以烧结以生产纯氧化铝微元件。

微立体光刻技术是微工程和快速原型设计领域的一项技术。

贝尔施, A ;吉盖, S ;伯恩哈德, P ;雷纳德,P等人


《快速原型技术》,第758卷,2003年,第3-
15页,《快速原型技术研讨会》,波士顿,马萨诸塞州,DEC 03-05,2002年。

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